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英特爾公司近日宣布,已獲得美國(guó)能源部約1220萬(wàn)元人民幣的資助,用于研發(fā)能應(yīng)對(duì)2000W以上功耗的下一代數(shù)據(jù)中心散熱技術(shù)。據(jù)悉,數(shù)據(jù)中心耗電量約占全美2%,其中冷卻散熱部分最多占數(shù)據(jù)中心耗電量的40%。隨著性能的不斷提升,當(dāng)前散熱技術(shù)只能應(yīng)對(duì)1000W左右功耗,無(wú)法滿足未來(lái)需求。在未來(lái)三年合同期內(nèi),英特爾將與科研機(jī)構(gòu)和行業(yè)領(lǐng)袖合作,開(kāi)發(fā)創(chuàng)新的浸沒(méi)式散熱技術(shù),包括3D真空腔均熱技術(shù)等,并提供散熱測(cè)試平臺(tái)及形態(tài)規(guī)格定義。與此同時(shí),英特爾還將針對(duì)性地研發(fā)下一代處理器,優(yōu)化散熱和能效,提高兩相浸沒(méi)式散熱系統(tǒng)的效率至少2.5倍,達(dá)到0.01℃/W。